近日，日本印刷株式会社（DNP）宣布，成功开发出电路线宽仅为10nm的纳米压印（NIL）光刻模板，可用于相当于1.4纳米等级的逻辑半导体电路图形化，可以满足智能...

先进光子器件工程创新平台中试大楼 国际在线报道（记者 朱宛玲）3月30日，陕西光电子先导院先进光子器件创新平台在西安全面启用。该平台具备光子芯片制程中的光刻、刻...